装置紹介
下記以外にもご利用可能な機器があります。詳しくはお問い合わせください。
<電子顕微鏡および関連機器>
【TEM】遠隔操作対応透過電子顕微鏡
 場所:先端研究棟101号室
【FIB】集束イオンビーム加工観察装置
 場所:先端研究棟102号室
電子線描画装置(50kV)
 場所:先端研究棟104号室(クリーンルーム)
ECRエッチング装置
 場所:先端研究棟104号室(クリーンルーム)
<半導体製造関連装置>
マスクレス露光装置
 場所:先端研究棟104号室(クリーンルーム)
マスクアライナー
 場所:先端研究棟104号室(クリーンルーム)
クリーンルーム(スピンコーター、光学顕微鏡)
 場所:先端研究棟104号室(クリーンルーム)
<成膜・蒸着・膜厚測定>
UHV10元スパッタ装置
 場所:先端研究棟104号室(クリーンルーム)
3元RFマグネトロンスパッタ装置
 場所:西研究棟108号室
エリプソメータ(分光型)
 場所:先端研究棟102号室
<構造解析/元素分析>
水平粉末X線回折装置
 場所:先端研究棟308号室
 ※現在のところ学内のみ
元素分析装置
 場所:先端研究棟308号室
 ※現在のところ学内のみ
X線構造解析装置
 場所:先端研究棟308号室
 ※現在のところ学内のみ
粉末・小角X線回折装置
 場所:本館北138号室
 ※現在のところ学内のみ
ICP発光分光分析装置
 場所:先端研究棟204号室
マルチICP発光分光分析装置
 場所:先端研究棟204号室
<核磁気共鳴装置(NMR)>
核磁気共鳴装置 本館
 場所:本館南402号室
 ※現在のところ学内のみ
核磁気共鳴装置 旧
 場所:共同研究開発棟106号室
核磁気共鳴装置 新
 場所:共同研究開発棟106号室
<質量分析装置(MS)>
【GCMS】ガスクロマトグラフ質量分析システム
 場所:共同研究開発棟210号室
QTOF-MS
 場所:先端研究棟306号室
 ※現在のところ学内のみ
<熱分析・熱測定装置>
差動型示差熱天秤(TG測定)リガク
 場所:共同研究開発棟210号室
差動型示差熱天秤(TG測定)ネッチ
 場所:共同研究開発棟210号室
<各種測定装置>
ナノ粒子径分布測定装置
 場所:ビジネスインキュベーション棟210号室
昇温脱離ガス分析装置(ダイナミック型)
 場所:共同研究開発棟209室
 ※R5.11月~新規受付中止
全有機炭素計
 場所:ビジネスインキュベーション棟210号室
X線光電子分光装置
 場所:本館南403号室
電子スピン共鳴装置
 場所:ビジネスインキュベーション棟101号室
ソーラーシミュレータ
 場所:先端研究棟202号室
薄膜・多孔質素材評価装置(ポロメータ)
 場所:共同研究開発棟209室
デジタルPCRシステム
 場所:先端研究棟302号室